半導體光刻用光源制造商Gigaphoton Inc.（總部：櫪木縣小山市；總裁兼首席執(zhí)行官：Tatsuo Enami）宣布，“G300K”微孔加工光源已交付給日本一家專門從事后端設備制造的設備制造商，該集成系統(tǒng)已成功安裝在美國一家公司的工廠內(nèi)。

Gigaphoton將其在半導體光刻光源方面的專業(yè)知識用于開發(fā)先進封裝工藝的超精細刻蝕處理光源。

G300K是一種基于KrF（248nm）波長的準分子激光器，可集成到半導體封裝基板的加工設備中。該激光器讓長壽命模塊獲得高功率、高重復率、高可靠性的優(yōu)勢，并主要用于加工直徑超過10μm的微孔以及溝槽圖案。該激光器有望用于借助芯片組制造2.5D/3D封裝，預計主要用于人工智能芯片組的芯片將有所增加。

Gigaphoton總裁兼首席執(zhí)行官Tatsuo Enami表示：“在Gigaphoton，我們在研發(fā)半導體光刻光源的同時，也一直在探索準分子激光在其他領域應用的各種可能性。 我們將繼續(xù)加快研發(fā)工作，拓展新的領域。 作為半導體制造行業(yè)的重要光源制造商，我們將繼續(xù)通過不斷研發(fā)新工藝來促進準分子激光器的進一步應用，從而為該行業(yè)做出貢獻�！�

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自2000年成立以來，GIGAPHOTON一直作為光源制造商為全球半導體制造商提供寶貴的解決方案。 從研發(fā)到制造、銷售和維護服務的每一個階段，GIGAPHOTON致力于從日常用戶的角度提供世界一流的支持。